Varadarajan 表示：Lam Cryo 3.0 为（我们的）客户实现 1000 层 3D NAND 铺平了道路。泛林低温蚀刻已被用于 500 万片晶圆的生产，而我们的最新技术是 3D NAND 生产领域的一项突破。它能以埃米级精度创建高深宽比图形特征，同时降低对环境的影响，蚀刻速度是传统介电工艺的两倍多。Lam Cryo 3.0 是我们的客户克服人工智能时代关键 NAND 制造障碍所需的蚀

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